国家知识产权局信息显示,华为技术有限公司申请一项名为“一种存储单元、存储阵列、存储器以及电子设备”的专利,公开号CN121986563A,申请日期为2023年10月。
专利摘要显示,本申请实施例提供一种存储单元、存储阵列、存储器以及电子设备,涉及半导体存储技术领域,用于缓解铁电存储器功耗高的问题。存储单元的存储电容包括第一电极、铁电层、第一金属氧化层以及第二电极。第一金属氧化层层叠设置于第一电极和铁电层之间。该第一金属氧化层中第一金属氧化物的金属元素包括第三族、第四族以及第五族元素中,除了铪元素以外的至少一种金属元素,该第一金属氧化层向铁电层施加合适的拉力,对铁电层的晶体结构进行拉伸,使得铁电层的晶体结构具有晶格畸变,以增加铁电层中O相比例,从而增加铁电层的铁电性,使存储器更容易实现铁电极性翻转,降低工作电压和功耗。
天眼查资料显示,华为技术有限公司,成立于1987年,位于深圳市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本4104113.182万人民币。通过天眼查大数据分析,华为技术有限公司共对外投资了51家企业,参与招投标项目41880次,财产线索方面有商标信息5000条,专利信息5000条,此外企业还拥有行政许可1721个。
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来源:市场资讯