国家知识产权局信息显示,南昌大学、南昌实验室、南昌硅基半导体科技有限公司申请一项名为“一种LED芯片及其制备方法”的专利,公开号CN121531865A,申请日期为2026年1月。
专利摘要显示,本发明提供一种LED芯片及其制备方法,通过在基板上依次设置的键合层、绝缘层、保护层、复合层以及外延层,复合层由图形互补的阻挡层和反射层组成,外延层包括朝远离基板方向依次设置的p型GaN层、多量子阱发光层以及n型GaN层,外延层表面和部分阻挡层上设置钝化层;其中,绝缘层朝n型GaN层方向延伸,形成嵌设于外延层中的容纳空间,容纳空间中设置n电极,n电极两端分别与n型GaN层和键合层接触;外延层的侧面设置有由钝化层、阻挡层和保护层形成的凹槽,凹槽中设置有p电极焊盘,实现了保护层与n电极同时制备,减少了制备工序,另外,由于阻挡层的设置,保护层与n电极无需使用耐磷酸腐蚀的贵金属材料,有助于降低制造成本。
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来源:市场资讯