江苏第三代半导体研究院申请低应力氮化物外延片专利,提高外延片的发光效率和发光亮度
创始人
2026-06-20 01:23:13
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国家知识产权局信息显示,江苏第三代半导体研究院有限公司申请一项名为“一种低应力氮化物外延片、其制备方法与光电器件”的专利,公开号CN122248864A,申请日期为2024年12月。

专利摘要显示,本发明涉及一种低应力氮化物外延片、其制备方法与光电器件,低应力氮化物外延片包括依次层叠设置的衬底、n型氮化物层、n型氮化物势垒层、复合发光层以及p型氮化物结构;n型氮化物势垒层远离衬底的表面间隔分布成核聚集区;复合发光层包括间隔分布的复合纳米隔断结构,以及设置于复合纳米隔断结构之间的发光结构。本发明通过复合纳米隔断结构的设置实现了对发光结构的隔断,使发光结构能够利用量子尺寸限制效应降低QCSE,从而降低应力分布,提高电子和空穴的辐射复合效率,从而提高外延片的发光效率和发光亮度,降低发光波长的半峰宽,提高显示应用的色纯度。

天眼查资料显示,江苏第三代半导体研究院有限公司,成立于2019年,位于苏州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析,江苏第三代半导体研究院有限公司共对外投资了2家企业,参与招投标项目23次,财产线索方面有商标信息8条,专利信息419条,此外企业还拥有行政许可11个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

来源:市场资讯

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