和辉光电申请偏光片剥离力测试方法及装置专利,有效提高偏光片的可重工性
创始人
2026-06-20 01:21:44
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国家知识产权局信息显示,上海和辉光电股份有限公司申请一项名为“一种偏光片剥离力的测试方法及测试装置”的专利,公开号CN122238199A,申请日期为2024年12月。

专利摘要显示,本发明公开了一种偏光片剥离力的测试方法及测试装置,测试方法包括:获取所述第一压敏胶的剥离力;所述第一压敏胶的剥离力为所述第一压敏胶与预设基板之间的剥离力;在所述第一压敏胶的剥离力满足预设剥离力范围的情况下,确定所述第一保护层与所述偏光层之间的剥离力;在所述第一保护层与所述偏光层之间的剥离力大于所述第一压敏胶的剥离力的情况下,确定所述第二保护层远离所述偏光层的表面的水滴角角度;在所述第二保护层远离所述偏光层的表面的水滴角角度满足预设角度范围的情况下,确定偏光片的剥离力合格。本发明可以有效提高偏光片的可重工性。

天眼查资料显示,上海和辉光电股份有限公司,成立于2012年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1380943.7625万人民币。通过天眼查大数据分析,上海和辉光电股份有限公司参与招投标项目280次,财产线索方面有商标信息15条,专利信息2031条,此外企业还拥有行政许可511个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

来源:市场资讯

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