卡姆特申请晶体学缺陷检查专利，检测半导体晶圆中的偏振改变缺陷(诸如微管)
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2026-03-05 09:13:35
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国家知识产权局信息显示，卡姆特有限公司申请一项名为“晶体学缺陷检查”的专利，公开号CN121595546A，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，本发明公开了一种采用反射明场显微术的晶圆检查系统，所述晶圆检查系统可适配有偏振光学元件和镜子以检测半导体晶圆中的偏振改变缺陷(诸如微管)。所述偏振改变缺陷可位于所述半导体晶圆的块体内并且可在较暗的背景上被成像为明亮特征。所述系统还可用于对诸如污染物和夹杂物等非偏振改变缺陷的常规明场检查。
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来源：市场资讯
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