国家知识产权局信息显示,国际商业机器公司申请一项名为“用于电学表征和激光退火的集成电光装置”的专利,公开号CN121753524A,申请日期为2024年8月。
专利摘要显示,一种装置包括光学装置和电学表征装置。光学装置和电学表征装置包括集成配置,以执行激光退火操作,用于调谐量子芯片上的超导隧道结器件的结电阻,并且执行原位电阻测量,以测量量子芯片上的超导隧道结器件的结电阻。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
来源:市场资讯
上一篇:凯迅光电取得改善红外LED光谱专利
下一篇:合肥卓兴科技取得PCB板AOI双面检测装置专利,提高了PCB板的检测效率