和辉光电申请微透镜阵列结构专利，有效提升显示亮度和出光效率
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2026-03-10 17:52:19
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国家知识产权局信息显示，上海和辉光电股份有限公司申请一项名为“微透镜阵列结构、显示模组、显示面板和显示装置”的专利，公开号CN121646177A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，本发明提供一种微透镜阵列结构，包括发光层和围绕发光层设置的像素定义层，像素定义层中设置有反射层，反射层为梯形结构且梯形结构的斜边从下向上朝向外侧倾斜设置，反射层的折射率小于1.28。本发明通过在显示模组的像素定义层中引入梯形结构的反射层，并使用折射率小于1.28的材料，使光子能够在反射层界面产生全反射效应，使得光线更容易被引导到显示器的正面输出，减少侧向光损失，有效提升了显示亮度和出光效率。有效解决了OLED显示器中因波导效应导致光子被困在发光层与基板之间的问题。此外，本发明通过简单的梯形设计和材料创新，在确保出光效率提升的同时，还能够简化制造工艺，降低生产成本。
天眼查资料显示，上海和辉光电股份有限公司，成立于2012年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1380943.7625万人民币。通过天眼查大数据分析，上海和辉光电股份有限公司参与招投标项目279次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息2006条，此外企业还拥有行政许可498个。
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来源：市场资讯
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