重庆乾岷光学申请光学镜片微纳结构光子晶体抗反射表面电子束光刻制备方法专利，解决了绝缘基底上的电荷累积问题_电子电器

重庆乾岷光学申请光学镜片微纳结构光子晶体抗反射表面电子束光刻制备方法专利，解决了绝缘基底上的电荷累积问题

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2026-07-16 01:12:01

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国家知识产权局信息显示，重庆乾岷光学科技有限公司申请一项名为“光学镜片微纳结构光子晶体抗反射表面电子束光刻制备方法”的专利，公开号CN122386590A，申请日期为2026年4月。

专利摘要显示，本申请涉及微纳光学制造技术领域，公开了光学镜片微纳结构光子晶体抗反射表面电子束光刻制备方法，包括以下步骤：S1、制备包含HSQ、功能添加剂C60、催化添加剂TEA及主溶剂和梯度诱导共溶剂的复合光刻胶；S2、清洗光学镜片基底；S3、旋涂光刻胶并前烘，利用混合溶剂的挥发速率差异使C60在膜层表面富集；S4、在不涂覆导电层的条件下，对膜层进行电子束曝光，此时C60耗散电荷，TEA协同催化HSQ交联；S5、显影去除未曝光区域；S6、对显影后的图案进行高温焙烧，形成光子晶体抗反射结构。本发明解决了绝缘基底上的电荷累积问题，无需导电层，同时提高了曝光敏感度，简化了工艺，实现了高保真度微纳结构的制备。

天眼查资料显示，重庆乾岷光学科技有限公司，成立于2016年，位于重庆市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，重庆乾岷光学科技有限公司参与招投标项目3次，专利信息19条，此外企业还拥有行政许可13个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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