国家知识产权局信息显示,新存科技(武汉)有限责任公司申请一项名为“相变存储器耐久性测试方法、存储介质和相变存储器”的专利,公开号CN121725862A,申请日期为2025年11月。
专利摘要显示,本申请公开了一种相变存储器耐久性测试方法、存储介质和相变存储器,涉及半导体技术领域,该方法包括:在相变存储器中确定目标测试区域;向目标测试区域进行第一全0数据模式写入操作后,对目标测试区域执行至少一次目标操作;目标操作包括:延迟预设时间后,向目标测试区域进行第二全0数据模式写入操作,并获取目标测试区域的错误系数;当检测到目标测试区域的错误系数不小于预设阈值时,输出测试数据。本公开的技术方案,通过向目标测试区域进行第一全0数据模式写入操作后,对目标测试区域执行至少一次目标操作,能够加速对目标测试区域的磨损,从而大大降低相变存储器耐久性测试的时间成本和测试成本。
天眼查资料显示,新存科技(武汉)有限责任公司,成立于2022年,位于武汉市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本1785.754万人民币。通过天眼查大数据分析,新存科技(武汉)有限责任公司共对外投资了9家企业,参与招投标项目5次,专利信息207条。
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来源:市场资讯