上海新微技术研发中心申请改善红外传感器成像均匀性的方法及红外传感器专利，改善红外传感器的成像均匀性_电子电器

上海新微技术研发中心申请改善红外传感器成像均匀性的方法及红外传感器专利，改善红外传感器的成像均匀性

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2026-03-14 16:35:50

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国家知识产权局信息显示，上海新微技术研发中心有限公司申请一项名为“一种改善红外传感器成像均匀性的方法及红外传感器”的专利，公开号CN121655708A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明提供一种改善红外传感器成像均匀性的方法及红外传感器，包括以下步骤：S1.在读出电路晶圆上形成聚酰亚胺层，并进行固化；S2.在聚酰亚胺层中刻蚀形成桥墩通道，直至露出读出电路晶圆的电极表面；S3.在读出电路晶圆表面形成第一介质层；S4.在第一介质层上形成热敏电阻部；S5.移除电极表面的第一介质层，露出电极；S6.在读出电路晶圆表面形成第一金属层；S7.在读出电路晶圆表面形成第二介质层；S8.对第二介质层表面进行氧气等离子体处理，处理条件包括：工艺温度150‑200℃，处理时间1‑10min；S9.对第二介质层、第一金属层和第一介质层进行图形化处理，形成桥臂结构。该方法实现了桥臂结构关键尺寸与形貌的均匀性提升，进而改善红外传感器的成像均匀性。

天眼查资料显示，上海新微技术研发中心有限公司，成立于2013年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本144416万人民币。通过天眼查大数据分析，上海新微技术研发中心有限公司共对外投资了21家企业，参与招投标项目490次，财产线索方面有商标信息52条，专利信息834条，此外企业还拥有行政许可47个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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