爱思开海力士申请存储器装置的制造方法专利，使得第二部分具有小于第一部分的厚度
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2026-03-11 15:07:23
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国家知识产权局信息显示，爱思开海力士有限公司申请一项名为“存储器装置的制造方法”的专利，公开号CN121645879A，申请日期为2025年4月。

专利摘要显示，本申请涉及存储器装置的制造方法。一种制造存储器装置的方法包括以下步骤：形成贯穿层叠结构的开口；形成包括第一部分和第二部分的沟道层，其中，所述第一部分在所述层叠结构的上表面上延伸，并且所述第二部分在所述开口的内侧表面上延伸；在所述沟道层的第一部分上形成保护层；以及蚀刻所述第二部分的未被所述保护层覆盖的一部分，使得所述第二部分具有小于所述第一部分的厚度。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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