国家知识产权局信息显示,格科微电子(上海)有限公司申请一项名为“图像传感器及其形成方法”的专利,公开号CN121619972A,申请日期为2024年8月。
专利摘要显示,本发明公开了一种图像传感器及其形成方法,该方法包括:提供衬底;刻蚀衬底形成浅沟槽,并填充介质材料形成浅沟槽隔离结构;通过多次刻蚀所述浅沟槽隔离结构的介质材料,在所述浅沟槽隔离结构的介质材料中形成一个沟槽或多个不同深度的沟槽;在沉积多晶硅后,通过一次刻蚀所述多晶硅,形成具有多个不同侧壁高度的多个晶体管栅极。
天眼查资料显示,格科微电子(上海)有限公司,成立于2003年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本6259.722万美元。通过天眼查大数据分析,格科微电子(上海)有限公司共对外投资了15家企业,参与招投标项目15次,财产线索方面有商标信息69条,专利信息1101条,此外企业还拥有行政许可44个。
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来源:市场资讯