芯上微装首台350nm步进光刻机发运,助力国产化合物半导体
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2025-12-02 23:35:03
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近期,上海芯上微装科技股份有限公司(以下简称“芯上微装”)自主研发的首台350nm步进光刻机(AST6200 )正式完成出厂调试与验收,启程发往客户现场,将为国产化合物半导体制造提供强有力的核心装备支撑。

图片来源:芯上微装

AST6200光刻机是芯上微装基于多年光学系统设计、精密运动控制与半导体工艺理解积淀,倾力打造的高性能、高可靠性、全自主可控的步进式光刻设备,专为功率、射频、光电子及Micro LED等先进制造场景量身定制。核心性能亮点包括:

高分辨率成像满足先进工艺需求,搭载大数值孔径投影物镜,结合多种照明模式与可变光瞳技术,实现350nm高分辨率,满足当前主流化合物半导体芯片的光刻工艺要求。

高精度套刻配置高精度对准系统,实现正面套刻80nm,背面套刻500nm,确保多层图形精准套刻,提升器件良率。

高产率设计,显著降低拥有成本(COO)

  • 高照度I-line光源(365nm)
  • 高速直线电机基底传输系统,支持2/3/4/6/8英寸多种规格基片快速切换
  • 高速高精度运动台系统,最大加速度1.5g,大幅提升单位时间产能

强工艺适应性,兼容多材质、多形态基底

  • 支持Si、SiC、InP、GaAs、蓝宝石等多种材质基片
  • 兼容平边、双平边、Notch等多种基片类型
  • 创新调焦调平系统,采用多光斑、大角度入射设计,可精准测量透明、半透明、不透明及大台阶基底
  • 支持背面对准模块,满足键合片等复杂制程的背面对准需求

100%软件自主可控打造全栈国产生态,AST6200搭载芯上微装自主研发的全栈式软件控制系统,从底层驱动到上层工艺管理,实现完全自主主权。系统具备强大的工艺扩展性与远程运维能力,持续赋能设备生命周期,助力客户实现智能化产线升级。

(文/集邦化合物半导体整理)

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