近期,上海芯上微装科技股份有限公司(以下简称“芯上微装”)自主研发的首台350nm步进光刻机(AST6200 )正式完成出厂调试与验收,启程发往客户现场,将为国产化合物半导体制造提供强有力的核心装备支撑。
图片来源:芯上微装
AST6200光刻机是芯上微装基于多年光学系统设计、精密运动控制与半导体工艺理解积淀,倾力打造的高性能、高可靠性、全自主可控的步进式光刻设备,专为功率、射频、光电子及Micro LED等先进制造场景量身定制。核心性能亮点包括:
高分辨率成像满足先进工艺需求,搭载大数值孔径投影物镜,结合多种照明模式与可变光瞳技术,实现350nm高分辨率,满足当前主流化合物半导体芯片的光刻工艺要求。
高精度套刻配置高精度对准系统,实现正面套刻80nm,背面套刻500nm,确保多层图形精准套刻,提升器件良率。
高产率设计,显著降低拥有成本(COO)
强工艺适应性,兼容多材质、多形态基底
100%软件自主可控打造全栈国产生态,AST6200搭载芯上微装自主研发的全栈式软件控制系统,从底层驱动到上层工艺管理,实现完全自主主权。系统具备强大的工艺扩展性与远程运维能力,持续赋能设备生命周期,助力客户实现智能化产线升级。
(文/集邦化合物半导体整理)
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