国家知识产权局信息显示,银川艾森达新材料发展有限公司申请一项名为“高强度氮化铝基板及其制备方法”的专利,公开号CN122647239A,申请日期为2026年7月。
专利摘要显示,本申请提供一种高强度氮化铝基板及其制备方法,属于陶瓷基板技术领域。所述一种高强度氮化铝基板的制备方法,包括以下步骤:S1:将改性第一氮化铝粉末、第二氮化铝粉末、烧结助剂混合,得到混合粉料;S2:将混合粉料成型为素坯;S3:将素坯在氮气气氛中进行分步烧结,所述分步烧结包括在550~650℃进行的碳化阶段和1480~1820℃进行的分阶段烧结,再冷却至20℃~30℃,得到氮化铝基板。本申请得到的氮化铝基板弯曲强度可达540MPa以上,同时热导率可稳定保持在170W/(m·K)以上,满足高可靠性高端电子器件的使用要求。
天眼查资料显示,银川艾森达新材料发展有限公司,成立于2017年,位于银川市,是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析,银川艾森达新材料发展有限公司参与招投标项目2次,专利信息30条,此外企业还拥有行政许可3个。
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来源:市场资讯