国家知识产权局信息显示,北京新忆科技有限公司申请一项名为“一种具有梯度掺杂阻变层的阻变存储器及其制备方法”的专利,公开号CN122458698A,申请日期为2026年6月。
专利摘要显示,本申请涉及半导体存储器件技术领域,公开了一种具有梯度掺杂阻变层的阻变存储器及其制备方法,该存储器包括依次堆叠的底部金属层、金属间绝缘层、底部电极、阻变层、储氧层、顶部电极与顶部金属层。所述阻变层内含有微量掺杂元素,该掺杂元素的浓度沿薄膜厚度方向呈线性或阶梯式分布,且掺杂浓度从阻变层上表面向底部电极方向逐渐降低。上述浓度梯度在薄膜纵向构建了氧空位形成能的递减通道,从而在电场驱动下引导导电细丝沿特定路径定向生长与断裂。本申请消除了导电通道成核的随机性,提升了器件在Set与Reset操作中的电阻值一致性,有效降低了操作电压,提高了阵列良率与可重复性,进而简化了外围电路设计并降低芯片的面积开销。
天眼查资料显示,北京新忆科技有限公司,成立于2018年,位于北京市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本3218.1273万人民币。通过天眼查大数据分析,北京新忆科技有限公司共对外投资了2家企业,参与招投标项目2次,财产线索方面有商标信息11条,专利信息44条,此外企业还拥有行政许可5个。
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来源:市场资讯