研微半导体完成数亿元A轮融资
创始人
2025-11-25 17:36:04
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投资界11月25日消息,近日,研微(江苏)半导体科技有限公司(简称“研微半导体”)完成数亿元A轮融资,投资方包括永鑫方舟、金圆资本、合肥产投等知名投资机构。公司成立3年已有多台设备通过Fab厂验证,募集资金将用于未来研发投入及扩充团队。

「研微半导体」成立于 2022 年,坐落于无锡经济开发区。公司致力于研发、生产和销售具有自主知识产权且具备国际竞争力的半导体设备,专注于原子层沉积(ALD)、 Si 外延沉积(SI EPI)、等离子体化学气相沉积(PECVD)、SiC 外延(SiC EPI)以及原子层刻蚀(ALE)等设备及工艺技术的研发。公司的目标是解决高端芯片制造中沉积和刻蚀技术的难题,引领更先进的沉积和刻蚀设备技术,同时与上下游产业链紧密合作齐步向前。

随着逻辑芯片制程的持续升级和3D存储芯片对多层高深宽比结构要求的不断提高,ALD 技术凭借其原子层级沉积特点,具有薄膜厚度精确度高、均匀性好、台阶覆盖率极高、沟槽填充性能极佳等优势,特别适合在对薄膜质量和台阶覆盖率有较高要求的领域应用,在 45nm 以下节点、先进封装、3D结构等半导体薄膜沉积环节有大量需求。

「研微半导体」目前重点突破的tALD、PEALD、低压EPI等细分领域,市场份额主要由美日欧厂商占据,高端薄膜沉积设备进口受限。凭借在金属栅极、高深宽比沟槽填充等细分工艺的突破,研微半导体在最前沿半导体技术竞争中建立优势,实现国产替代。

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