华星光电申请显示模组及其制备方法专利，改善弯折印痕问题
创始人
2026-03-04 13:12:46
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国家知识产权局信息显示，武汉华星光电半导体显示技术有限公司申请一项名为“显示模组及其制备方法”的专利，公开号CN121600817A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本申请公开了一种显示模组及其制备方法，金属支撑层与显示面板之间采用液态胶涂布后再固化的工艺顺序形成粘接层，液态胶受贴合压力溢流填充至镂空图案内，从而改善弯折印痕问题，并且，镂空图案内的填充胶与金属支撑层之间的粘接层为一体胶，从而避免了胶不相容产生聚集进而形成凸起的不良问题。
天眼查资料显示，武汉华星光电半导体显示技术有限公司，成立于2016年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2100000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉华星光电半导体显示技术有限公司参与招投标项目518次，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可381个。
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来源：市场资讯
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