国家知识产权局信息显示,ASM IP私人控股有限公司申请一项名为“用于混合键合的方法和结构”的专利,公开号CN121487632A,申请日期为2025年7月。
专利摘要显示,本技术的各种实施例可以提供一种用于制造半导体结构的方法。该方法可以包括:接收具有介电层和导电特征的源衬底,仅在导电特征的顶表面上选择性地沉积阻挡层,改性介电层的顶表面,以及在改性介电层之后去除阻挡层。该方法还可以包括在沉积阻挡层之前清洁介电和导电特征的顶层。
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