国家知识产权局信息显示,合肥晶合集成电路股份有限公司申请一项名为“半导体结构及其制法、器件、掩膜图案的生成方法及掩膜”的专利,公开号CN121310613A,申请日期为2025年12月。
专利摘要显示,本申请实施例提供了一种半导体结构及其制法、器件、掩膜图案的生成方法及掩膜,该半导体结构包括:包括衬底和场氧化结构的基底;衬底具有相对的第一表面和第二表面;衬底内形成有沟道有源区;场氧化结构从第二表面向第一表面延伸,在第一表面定义出沟道有源区的第一边界,在第二表面定义出沟道有源区的第二边界;沟道有源区具有连接第一边界和第二边界的至少一个钝化连接部;钝化连接部沿从沟道有源区内部向场氧化结构延伸的方向凸出;钝化连接部由一或多个倾斜平面或曲面构成;覆盖第一表面且与场氧化结构相连的栅氧化层;形成于栅氧化层远离基底一侧的栅极。通过本申请实施例,提高了高压MOS管的击穿电压。
天眼查资料显示,合肥晶合集成电路股份有限公司,成立于2015年,位于合肥市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本200613.5157万人民币。通过天眼查大数据分析,合肥晶合集成电路股份有限公司共对外投资了10家企业,参与招投标项目634次,财产线索方面有商标信息41条,专利信息1561条,此外企业还拥有行政许可22个。
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来源:市场资讯