新微技术研发中心申请红外传感器及其制备方法专利，显著改善红外传感器的VO图像质量_元器件

新微技术研发中心申请红外传感器及其制备方法专利，显著改善红外传感器的VO图像质量

创始人

2026-01-05 15:38:00

0次

国家知识产权局信息显示，上海新微技术研发中心有限公司申请一项名为“一种红外传感器及其制备方法”的专利，公开号CN121252965A，申请日期为2025年9月。

专利摘要显示，本申请公开了一种红外传感器及其制备方法，涉及半导体集成电路制造技术领域。制备方法包括：红外传感器包含金属桥臂结构，制备方法包括：对金属桥臂结构进行干法湿法交替处理工艺，制备获得红外传感器，其中，干法湿法交替处理工艺为对金属桥臂结构依次进行干法刻蚀去残留一次处理、湿法冲洗处理、湿法浸泡处理以及干法刻蚀去残留二次处理。本申请制备的红外传感器能够完全去除多层残留物，显著改善红外传感器的VO图像质量。

天眼查资料显示，上海新微技术研发中心有限公司，成立于2013年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本144416万人民币。通过天眼查大数据分析，上海新微技术研发中心有限公司共对外投资了21家企业，参与招投标项目484次，财产线索方面有商标信息52条，专利信息810条，此外企业还拥有行政许可46个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业方法显示处理工艺投资上海红外传感器技术研发中心专利桥臂红外传感器干法湿法

上一篇：PCB概念震荡走高世运电路涨超9%

下一篇：飞瓴光电申请近常压微波等离子体制备光纤预制棒专利，能够无需真空系统和保温炉

新微技术研发中心申请红外传感器及其制备方法专利，显著改善红外传感器的VO图像质量

相关内容

热门资讯