英特尔申请在源极/漏极接触部处具有凸形界面的集成电路结构专利，在IC结构的截面侧视图中S/D区在与接触结构的界面处的形状是凸形的
创始人
2026-09-08 22:28:01
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国家知识产权局信息显示，英特尔公司申请一项名为“在源极/漏极接触部处具有凸形界面的集成电路结构”的专利，公开号CN122719174A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本文公开了在源极/漏极（S/D）接触部处具有凸形界面的集成电路（IC）结构以及相关方法和装置。在一个方面，示例IC结构包括纳米带晶体管，该纳米带晶体管包括S/D区，并且还包括与S/D区连接的接触结构，其中，在IC结构的截面侧视图中，S/D区在与接触结构的界面处的形状是凸形的。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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