国家知识产权局信息显示,谷微半导体科技(江苏)有限公司申请一项名为“一种半导体电镀晶圆参数测试方法及系统”的专利,公开号CN122683609A,申请日期为2026年6月。
专利摘要显示,本申请涉及半导体技术领域,提供一种半导体电镀晶圆参数测试方法及系统,该方法包括:在晶圆进行电镀处理后,获取所述晶圆的镀层的原始微观形貌数据;所述原始微观形貌数据用于表征所述镀层的微观起伏情况;根据所述原始微观形貌数据确定所述镀层中异常点的异常信息;根据所述镀层中异常点的异常信息确定所述镀层的目标抛光压力;基于所述目标抛光压力对所述镀层进行抛光处理;对执行抛光处理后的晶圆进行目标参数的测试。能够提升晶圆的制造效率。
天眼查资料显示,谷微半导体科技(江苏)有限公司,成立于2021年,位于南通市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析,谷微半导体科技(江苏)有限公司共对外投资了3家企业,参与招投标项目27次,财产线索方面有商标信息4条,专利信息46条,此外企业还拥有行政许可6个。
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来源:市场资讯