华为申请图像传感器及其制备方法专利，提高光利用率_芯片

华为申请图像传感器及其制备方法专利，提高光利用率

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2026-03-11 19:39:13

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国家知识产权局信息显示，华为技术有限公司申请一项名为“图像传感器及其制备方法、摄像头模组、电子设备”的专利，公开号CN121646024A，申请日期为2024年9月。

专利摘要显示，本申请实施例公开一种图像传感器及其制备方法、摄像头模组、电子设备，涉及成像技术领域。该制备方法包括：采用含硅气体和含氧气体，在预设温度范围、预设压强范围及第一预设射频功率下，在滤光片阵列层上形成隔离介质层。采用含硅气体和含氮气体，在预设温度范围、预设压强范围及第二预设射频功率下，在隔离介质层上形成折射率大于或等于1.8的介质薄膜。刻蚀介质薄膜以形成超表面阵列层；超表面阵列层被配置为对入射光进行色散，将色散后的光传输至滤光片阵列层。含硅气体包括惰性气体，预设温度范围的最大值小于230℃。该制备方法可提高光利用率，在保护滤光片阵列层的基础上，实现介质薄膜的沉积，改善痕量金属污染。

天眼查资料显示，华为技术有限公司，成立于1987年，位于深圳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本4104113.182万人民币。通过天眼查大数据分析，华为技术有限公司共对外投资了51家企业，参与招投标项目41873次，财产线索方面有商标信息5000条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可1712个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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