北方华创申请半导体工艺腔室及半导体工艺设备专利，提升了刻蚀工艺的均匀性_芯片

北方华创申请半导体工艺腔室及半导体工艺设备专利，提升了刻蚀工艺的均匀性

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2026-03-09 09:38:16

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国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“半导体工艺腔室及半导体工艺设备”的专利，公开号CN121617887A，申请日期为2024年8月。

专利摘要显示，本申请公开一种半导体工艺腔室及半导体工艺设备，涉及半导体制造技术领域，所公开的半导体工艺腔室包括腔体、上电极装置、下电极装置及内衬，上电极装置设于腔体的顶部，下电极装置和内衬设于腔体内，且上电极装置与下电极装置相对间隔设置，内衬分别环绕设置于上电极装置和下电极装置的外侧，且与上电极装置以及下电极装置围成反应室。沿第一方向，上电极装置与内衬之间具有第一间隙，上电极装置与下电极装置之间具有第二间隙，内衬和下电极装置中的至少一者可沿第一方向升降，以调节第一间隙和第二间隙中的至少一者的大小，从而能够减小反应室的中心区域与边缘区域的流场差异，进而提升了刻蚀工艺的均匀性。

天眼查资料显示，北京北方华创微电子装备有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目1392次，财产线索方面有商标信息67条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可340个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业显示电极投资信息装置导体工艺专利北京腔室半导体内衬

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