艾科半导体取得晶圆最终清洗装置专利，降低了晶圆再次污染的风险
创始人
2026-02-28 21:18:30
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国家知识产权局信息显示，浙江艾科半导体设备有限公司取得一项名为“一种晶圆最终清洗装置”的专利，授权公告号CN223957939U，申请日期为2025年3月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种晶圆最终清洗装置，包括清洗台、机台以及清洗机构；清洗台呈圆形并且转动设置，清洗台的上端沿着其边沿一圈依次设有多个放置位；多个放置位均通过隔板分隔进行独立设置；清洗台的外侧，环绕一圈依次设有上料位、至少两个清洗位以及下料位，清洗位设有机台；机台上设置有可伸至清洗位进行清洗的清洗机构，将晶圆放置在清洗台上，通过清洗台的旋转依次将晶圆移动至不同机台的不同清洗机构处进行清洗，不用通过独立的设备转移晶圆，降低了晶圆再次污染的风险。

天眼查资料显示，浙江艾科半导体设备有限公司，成立于2019年，位于嘉兴市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本1250万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江艾科半导体设备有限公司财产线索方面有商标信息2条，专利信息34条。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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