国家知识产权局信息显示,西安龙威半导体有限公司申请一项名为“一种横向绝缘栅双极晶体管及其制作方法”的专利,公开号CN121548060A,申请日期为2025年11月。
专利摘要显示,本发明涉及一种横向绝缘栅双极晶体管及其制作方法,横向绝缘栅双极晶体管包括:衬底、外延层、基区、沟道衬底接触、源区、埋氧型沟槽、漏区、栅氧化层、栅极、源极和漏极;其中,外延层位于衬底上;基区、埋氧型沟槽和漏区均从外延层的表面延伸至外延层内部,且埋氧型沟槽位于基区和漏区之间;沟道衬底接触和源区均从基区的表面延伸至外延层内部,且沟道衬底接触和源区相邻,源区一侧的基区中形成沟道;栅氧化层覆盖源区的部分表面、沟道和外延层的部分表面,栅极位于栅氧化层上;源极覆盖沟道衬底接触的部分表面和源区的部分表面;漏极位于漏区上。该横向绝缘栅双极晶体管实现了耐压性、可靠性和整体性能的协同优化。
天眼查资料显示,西安龙威半导体有限公司,成立于2018年,位于西安市,是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本66068.167985万人民币。通过天眼查大数据分析,西安龙威半导体有限公司参与招投标项目22次,专利信息25条,此外企业还拥有行政许可24个。
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