中芯国际申请半导体结构及其形成方法专利,有利于保障半导体结构的工作性能
创始人
2026-02-14 15:42:19
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国家知识产权局信息显示,中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请一项名为“半导体结构及其形成方法”的专利,公开号CN121510581A,申请日期为2024年8月。

专利摘要显示,一种半导体结构及其形成方法,结构包括:基底;浮栅结构,位于基底上;介质层,覆盖浮栅结构的顶部和侧壁;补偿侧墙,覆盖浮栅结构两侧底角位置处的介质层侧壁;字线栅结构,分别位于浮栅结构两侧的基底上,字线栅结构分别覆盖浮栅结构侧壁的介质层和补偿侧墙、以及延伸覆盖浮栅结构部分顶部的介质层。本发明有利于减小半导体结构的工作风险,进而有利于保障半导体结构的工作性能。

天眼查资料显示,中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,成立于2000年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本244000万美元。通过天眼查大数据分析,中芯国际集成电路制造(上海)有限公司共对外投资了4家企业,参与招投标项目129次,财产线索方面有商标信息150条,专利信息5000条,此外企业还拥有行政许可447个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

来源:市场资讯

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