ASML申请具有混合自由空间光学器件和光子集成电路的光刻装置和检查系统专利，基于散射辐射生成测量信号
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2026-02-14 02:11:00
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“具有混合自由空间光学器件和光子集成电路的光刻装置和检查系统”的专利，公开号CN121488190A，申请日期为2024年5月。
专利摘要显示，一种光刻装置包括投射系统和检查系统，检查系统包括辐射系统、光子集成电路系统和检测器系统。投射系统将图案形成设备的图像投射到衬底上。辐射系统朝向衬底上的目标引导辐射，以从目标生成散射辐射。辐射系统包括用于生成辐射的辐射源和用于将辐射聚焦到目标上的光学系统。光子集成电路系统包括被集成在板上的波导系统和被设置在波导系统的波导处的辐射耦合器。辐射耦合器将散射辐射的至少一部分发动到波导系统中。检测器系统从波导系统接收散射辐射并且基于散射辐射生成测量信号。
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来源：市场资讯
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