中图半导体申请蒸镀薄膜沉积设备及方法专利，实现沉积效果好
创始人
2026-01-09 20:38:45
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国家知识产权局信息显示，广东中图半导体科技股份有限公司申请一项名为“一种蒸镀薄膜沉积设备及方法”的专利，公开号CN121295112A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本申请涉及一种蒸镀薄膜沉积设备及方法，其中，蒸镀薄膜沉积设备，包括工艺腔、加热组件和载片台；工艺腔具有工艺腔侧壁；加热组件具第一加热件和第二加热件；载片台设于工艺腔内，用于放置待抗粘衬底；所述载片台由所述第一加热件独立加热，所述工艺腔侧壁由所述第二加热件独立加热；且沉积过程中，所述载片台的工作温度T1低于所述工艺腔侧壁的工作温度T2。本申请实现了蒸镀薄膜沉积，沉积效果好。
天眼查资料显示，广东中图半导体科技股份有限公司，成立于2013年，位于东莞市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本42601.8559万人民币。通过天眼查大数据分析，广东中图半导体科技股份有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目31次，财产线索方面有商标信息8条，专利信息146条，此外企业还拥有行政许可95个。
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来源：市场资讯
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