乾照光电申请等离子体刻蚀装置专利，提高刻蚀均一性和刻蚀质量
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2026-05-16 17:50:54
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国家知识产权局信息显示，厦门乾照光电股份有限公司申请一项名为“一种等离子体刻蚀装置”的专利，公开号CN122051106A，申请日期为2026年3月。
专利摘要显示，本发明提供了一种等离子体刻蚀装置，涉半导体技术领域。通过采用静电扩散栅和OES组件结合控制器的控制，对用于刻蚀的制程气体进行局部浓度调节，从而可调节刻蚀图案的局部刻蚀速率，降低刻蚀的负载效应，提高刻蚀均一性和刻蚀质量。并且具有台阶结构的环形聚焦环设计可改善待刻蚀组件边缘等离子鞘层效益导致的等离子浓度分布不均匀效应，提升刻蚀均匀性。
天眼查资料显示，厦门乾照光电股份有限公司，成立于2006年，位于厦门市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本92033.3863万人民币。通过天眼查大数据分析，厦门乾照光电股份有限公司共对外投资了17家企业，参与招投标项目40次，财产线索方面有商标信息17条，专利信息572条，此外企业还拥有行政许可31个。
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来源：市场资讯
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