北方华创申请半导体工艺腔室及其控制方法专利，改善上电极翻转过程中的剐蹭问题
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2025-12-31 18:10:00
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国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“半导体工艺腔室及其控制方法”的专利，公开号CN121228176A，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，本申请实施例提供了一种半导体工艺腔室及其控制方法，以解决如何改善上电极翻转过程中，可能会剐蹭到其它器件的问题；其中，所述半导体工艺腔室包括：封盖装置和腔体组件；封盖装置包括：上盖组件、驱动组件和旋转臂；上盖组件包括上电极，上电极设有靶材安装部，靶材安装部用于安装靶材，驱动组件用于驱动上盖组件绕旋转臂的转轴翻转，以使上电极在开盖位置和中转位置之间切换；腔体组件设有待封盖口，驱动组件还用于驱动上电极沿直线朝靠近或远离待封盖口的方向运动，以使上电极在封盖位置和中转位置之间切换，在上电极位于中转位置的情况下，设置于靶材安装部的靶材位于待封盖口的外部。
天眼查资料显示，北京北方华创微电子装备有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目1335次，财产线索方面有商标信息67条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可340个。
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来源：市场资讯
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