国家知识产权局信息显示,上海华虹宏力半导体制造有限公司申请一项名为“参考电压产生电路以及参考电压产生方法”的专利,公开号CN121070121A,申请日期为2025年8月。
专利摘要显示,本发明提供一种参考电压产生电路以及参考电压产生方法。该电路包括放大器单元和参考电压产生单元。其中,该放大器单元包括PMOS差分输入对以及第一和第二双极晶体管;关键之处在于,第一双极晶体管的基极耦合至第一PMOS晶体管的漏极,第二双极晶体管的基极耦合至第二PMOS晶体管的漏极。本发明通过利用双极晶体管进行电平转换,为差分输入对提供了充足的电压裕量,确保了电路在极低电源电压下的饱和工作状态,从而实现了在低电压条件下稳定、高精度的参考电压输出,并具有优良的温度稳定性。
天眼查资料显示,上海华虹宏力半导体制造有限公司,成立于2013年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2046092.7759万人民币。通过天眼查大数据分析,上海华虹宏力半导体制造有限公司共对外投资了8家企业,参与招投标项目928次,财产线索方面有商标信息39条,专利信息5000条,此外企业还拥有行政许可429个。
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来源:市场资讯