沈阳富创申请基于低共熔溶剂的镀镍方法专利，为IC半导体、新能源汽车等领域关键部件的表面防护与功能化提供了新技术方案_微电子

沈阳富创申请基于低共熔溶剂的镀镍方法专利，为IC半导体、新能源汽车等领域关键部件的表面防护与功能化提供了新技术方案

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2026-04-04 18:57:36

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国家知识产权局信息显示，沈阳富创精密设备股份有限公司申请一项名为“一种基于低共熔溶剂的镀镍方法”的专利，公开号CN121781236A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明涉及金属电镀技术领域，具体涉及一种基于低共熔溶剂的镀镍方法，首先对金属工件进行预处理，然后将其浸入以氯化胆碱和乙二醇低共熔溶剂为基底、含有镍盐及添加剂的专用电解液中，在惰性气氛保护下进行电镀，最终获得镀镍制品。本发明彻底摒弃了传统水溶液体系，从根本上解决了活泼金属电镀时的置换反应与氢脆难题。该工艺成本低廉、环保安全、操作简便，在镁合金、钛合金等活泼金属基体上实现了镀层与基体的超高结合力，为IC半导体、新能源汽车等领域关键部件的表面防护与功能化提供了新技术方案。

天眼查资料显示，沈阳富创精密设备股份有限公司，成立于2008年，位于沈阳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本30621.0771万人民币。通过天眼查大数据分析，沈阳富创精密设备股份有限公司共对外投资了22家企业，参与招投标项目81次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息741条，此外企业还拥有行政许可45个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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