国家知识产权局信息显示,伟摩有限责任公司申请一项名为“用于清理传感器盖的方法”的专利,公开号CN122323944A,申请日期为2019年11月。
专利摘要显示,本发明提供了一种用于清理传感器盖的方法,该方法包括:至少部分地基于从监测传感器接收信息来确定传感器盖需要清理,监测传感器被配置为检测一种或更多种元素在传感器盖上的堆积;以及响应于该确定,接合安装到支撑件上的喷射器,以便将流体流引导至传感器盖,其中该接合使经由臂附接到喷射器的线性致动器调节喷射器在支撑件上的位置。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
来源:市场资讯