北京集成电路装备创新中心取得腔室清洗控制方法专利
创始人
2026-03-06 19:25:47
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国家知识产权局信息显示,北京集成电路装备创新中心有限公司取得一项名为“一种腔室清洗控制方法及半导体工艺设备”的专利,授权公告号CN120613288B,申请日期为2025年5月。

天眼查资料显示,北京集成电路装备创新中心有限公司,成立于2019年,位于北京市,是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本1113950万人民币。通过天眼查大数据分析,北京集成电路装备创新中心有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目4次,财产线索方面有商标信息1条,专利信息128条,此外企业还拥有行政许可6个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

来源:市场资讯

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