纳光电申请可调节Pt膜图形化薄膜电阻溅射制备系统专利，提高Pt膜的膜厚均匀性和电阻精度_微电子

纳光电申请可调节Pt膜图形化薄膜电阻溅射制备系统专利，提高Pt膜的膜厚均匀性和电阻精度

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2026-06-23 22:22:06

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国家知识产权局信息显示，纳光电（太原）研究院有限公司申请一项名为“一种可调节Pt膜图形化薄膜电阻的溅射制备系统”的专利，公开号CN122256890A，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，本发明公开了一种可调节Pt膜图形化薄膜电阻的溅射制备系统，涉及薄膜电阻的溅射制备技术领域，包括匀速输送结构，匀速输送结构的顶部通过安装设置电阻放置孔模板，通过在动态溅射调控组件配合下，整体有效通过调控的动态磁场引导等离子体在基片表面均匀地轰击靶材，减少因等离子体不均匀导致的膜厚差异，提高Pt膜的膜厚均匀性和电阻精度，降低膜电阻阻值，保障电阻的精度和稳定性，以减少电路失效的问题，并在定点摆动组件配合下，有效避免了传统蚀刻工艺中的侧向侵蚀问题，确保电阻的可调节性，提高图形化的精度，同时在靶向定位自适应调温组件配合下，进一步优化该区域的温度环境，以稳定薄膜电阻的性能。

天眼查资料显示，纳光电（太原）研究院有限公司，成立于2021年，位于太原市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，纳光电（太原）研究院有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目1次，专利信息17条，此外企业还拥有行政许可1个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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