SK海力士申请存储器装置专利，提高存储单元结构可靠性
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2026-01-08 15:37:28
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国家知识产权局信息显示，爱思开海力士有限公司申请一项名为“存储器装置”的专利，公开号CN121284955A，申请日期为2025年2月。
专利摘要显示，本公开涉及一种存储器装置。所述存储器装置包括：导电图案和第一层间绝缘层，所述导电图案和所述第一层间绝缘层在第一方向上彼此交替地层叠；虚设图案，所述虚设图案在所述第一方向上与所述导电图案分离；第二层间绝缘层，所述第二层间绝缘层位于所述导电图案和所述虚设图案之间；突出图案，所述突出图案在与所述第一方向交叉的第二方向上从所述第一层间绝缘层的侧表面和所述第二层间绝缘层的侧表面突出；以及数据存储图案，所述数据存储图案位于所述突出图案之间。
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来源：市场资讯
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