昂纳科技取得薄膜沉积设备专利，避免电源短路降低安全隐患
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2026-01-07 12:09:34
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国家知识产权局信息显示，昂纳科技（深圳）集团股份有限公司取得一项名为“一种薄膜沉积设备”的专利，授权公告号CN223766412U，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本实用新型涉及真空镀膜技术领域，具体涉及一种薄膜沉积设备。该薄膜沉积设备包括偏压电源装置、驱动装置、真空腔室以及设置在真空腔室内的工件定位装置和沉积源；其中，工件定位装置设置有用于定位工件的定位区域；沉积源用于产生薄膜源材料并使薄膜源材料向外溅射，沉积源的溅射端朝向工件定位装置的定位区域设置；偏压电源装置的电压输出端伸入真空腔室，且与工件定位装置连接，以通过工件定位装置对工件施加偏压；驱动装置的驱动轴伸入真空腔室，并通过绝缘联轴器与工件定位装置的旋转轴连接，并驱动工件定位装置旋转。本申请可避免施加有偏压的工件定位装置通过驱动装置的驱动轴将偏压传导到外部，避免电源短路，降低安全隐患。
天眼查资料显示，昂纳科技（深圳）集团股份有限公司，成立于2000年，位于深圳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本37963.9268万人民币。通过天眼查大数据分析，昂纳科技（深圳）集团股份有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目15次，财产线索方面有商标信息22条，专利信息947条，此外企业还拥有行政许可73个。
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来源：市场资讯
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