横店东磁申请隧穿氧化层钝化接触结构及其制备方法专利，显著提升电流_微电子

横店东磁申请隧穿氧化层钝化接触结构及其制备方法专利，显著提升电流

创始人

2026-05-27 01:59:52

0次

国家知识产权局信息显示，横店集团东磁股份有限公司申请一项名为“隧穿氧化层钝化接触结构及其制备方法、太阳能电池”的专利，公开号CN122094237A，申请日期为2026年1月。

专利摘要显示，本申请涉及一种隧穿氧化层钝化接触结构及其制备方法、太阳能电池，所述隧穿氧化层钝化接触结构包括第一隧穿氧化层钝化接触结构，以及层叠设置于所述第一隧穿氧化层钝化接触结构表面的至少一层第二隧穿氧化层钝化接触结构；所述第一隧穿氧化层钝化接触结构包括层叠设置的第一隧穿氧化层和第一掺杂多晶硅层；所述第二隧穿氧化层钝化接触结构包括层叠设置的第二隧穿氧化层和第二掺杂多晶硅层，所述第二隧穿氧化层中包括掺杂多晶硅颗粒，且掺杂原子在所述掺杂多晶硅颗粒中富集。本申请所述的隧穿氧化层钝化接触结构能够促进载流子收集，并降低隧穿层中载流子的传输阻力，从而显著提升电流。

天眼查资料显示，横店集团东磁股份有限公司，成立于1999年，位于金华市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本162671.2074万人民币。通过天眼查大数据分析，横店集团东磁股份有限公司共对外投资了40家企业，参与招投标项目9326次，财产线索方面有商标信息182条，专利信息2786条，此外企业还拥有行政许可102个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业方法显示多晶硅氧化投资显著提升横店东磁结构专利氧化层硅层隧穿

上一篇：玩家必看科普！WepoKe外挂透明挂辅助脚本，部落先锋有辅助挂脚本，详细教程（总结有挂）-哔哩哔哩

下一篇：杭州意能电力申请基于零序电流注入的配电线路不停电融冰装置专利，能够有效减少对电网的干扰

横店东磁申请隧穿氧化层钝化接触结构及其制备方法专利，显著提升电流

相关内容

热门资讯