新创元半导体申请改善侧蚀的油墨固化方法及装置专利，显著改善显影后油墨在固化过程中的侧蚀现象
创始人
2026-01-03 18:37:11
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国家知识产权局信息显示，武汉新创元半导体有限公司申请一项名为“一种改善侧蚀的油墨固化方法及装置”的专利，公开号CN121254572A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明提供了一种改善侧蚀的油墨固化方法及装置，其中方法包括：将显影后剩余的油墨进行热固化处理；对热固化后的油墨进行光固化处理。该方法显著改善了显影后油墨在固化过程中的侧蚀现象。
天眼查资料显示，武汉新创元半导体有限公司，成立于2021年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本31451.7339万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉新创元半导体有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目12次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息36条，此外企业还拥有行政许可74个。
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来源：市场资讯
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