国家知识产权局信息显示,新存科技(武汉)有限责任公司申请一项名为“相变存储器”的专利,公开号CN122054601A,申请日期为2026年1月。
专利摘要显示,本申请公开了一种相变存储器,该相变存储器包括衬底和多个存储单元,多个存储单元在衬底上阵列设置,存储单元包括相变存储层和电极层,电极层位于相变存储层沿第一方向的至少一侧,第一方向垂直于衬底的表面。其中,电极层包括沿第一方向叠置的第一子电极层和第二子电极层,第一子电极层的材料包括非晶碳,第二子电极层的热导率小于非晶碳的热导率。因此,相比于单纯采用非晶碳作为电极层而言,本申请采用的复合电极层的热导率降低,以减少相变存储层内的热量向电极层扩散,聚焦热量或电流密度至相变存储层,因此可以降低热扩散损失,提高热效率,进而降低RESET电流。
天眼查资料显示,新存科技(武汉)有限责任公司,成立于2022年,位于武汉市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本1785.754万人民币。通过天眼查大数据分析,新存科技(武汉)有限责任公司共对外投资了9家企业,参与招投标项目5次,专利信息221条。
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来源:市场资讯