新视界光电申请提高金属氧化物薄膜均匀性方法专利，可提高薄膜厚度均匀性
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2026-05-16 00:50:55
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国家知识产权局信息显示，广州新视界光电科技有限公司申请一项名为“一种提高金属氧化物薄膜均匀性的方法”的专利，公开号CN122039001A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本发明涉及一种提高金属氧化物薄膜均匀性的方法，属于材料技术领域。所述提高金属氧化物薄膜均匀性的方法，包括如下步骤：S1、将金属氧化物靶材与基片置于磁控溅射设备的磁控溅射腔体中；S2、通过主进气口向磁控溅射腔体内通入工作气体，并通过辅进气口向磁控溅射腔体内通入氧气，通过磁控溅射的方式在基片上制备金属氧化物薄膜。本发明提供的方法适用于制备大尺寸（面积不小于1500mm×1850mm）的金属氧化物薄膜；本发明在磁控溅射过程中通过主进气口向磁控溅射腔体内通入工作气体，并通过辅进气口向磁控溅射腔体内通入氧气，并间歇性旋转或匀速旋转基片，可以提高金属氧化物薄膜的厚度均匀性和元素成分分布均匀性。
天眼查资料显示，广州新视界光电科技有限公司，成立于2010年，位于广州市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本3358.3664万人民币。通过天眼查大数据分析，广州新视界光电科技有限公司参与招投标项目83次，财产线索方面有商标信息6条，专利信息159条，此外企业还拥有行政许可5个。
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来源：市场资讯
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