国家知识产权局信息显示,京东方华灿光电(浙江)有限公司申请一项名为“提升反射率的发光二极管及其制备方法”的专利,公开号CN122662348A,申请日期为2026年6月。
专利摘要显示,本公开提供了一种提升反射率的发光二极管及其制备方法,属于光电子制造技术领域。该制备方法包括:在外延层上依次生长透明导电层、电流阻挡层和绝缘反射层;通过单次刻蚀工艺,同步刻穿所述绝缘反射层和所述电流阻挡层,以形成露出所述透明导电层的过孔,所述过孔呈直孔状;在所述绝缘反射层的远离所述外延层的表面形成反射镜层,所述反射镜层通过所述过孔与所述透明导电层相连。本公开实施例能改善过孔所在区域反射率较低的问题,提升发光二极管的发光效果。
天眼查资料显示,京东方华灿光电(浙江)有限公司,成立于2014年,位于金华市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本380450万人民币。通过天眼查大数据分析,京东方华灿光电(浙江)有限公司共对外投资了3家企业,参与招投标项目54次,专利信息1094条,此外企业还拥有行政许可45个。
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来源:市场资讯