路维光电申请无酸铬蚀刻液专利，实现高精度图形蚀刻
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2026-08-03 21:23:56
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国家知识产权局信息显示，成都路维光电有限公司申请一项名为“一种无酸的铬蚀刻液及其制备方法和应用”的专利，公开号CN122484761A，申请日期为2026年4月。
专利摘要显示，本发明公开了一种无酸的铬蚀刻液及其制备方法和应用。所述蚀刻液的活性成分为硝酸铈铵，浓度不低于200g/L，由硝酸铈铵和水组成，不含任何外加强酸和表面活性剂。其制备方法包括将硝酸铈铵加入水中溶解、过滤。应用该蚀刻液可在常温下对铬膜进行蚀刻，并用于制造光掩膜版。本发明解决了传统含酸蚀刻液易产生侧蚀刻、安全性差的问题，实现了高精度、高安全性的图形蚀刻。
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来源：市场资讯
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