证券之星消息,根据天眼查APP数据显示思特威(688213)新获得一项发明专利授权,专利名为“图像传感器及其制备方法”,专利申请号为CN202210524730.6,授权日为2026年7月24日。
专利摘要:本发明提供一种图像传感器及其制备方法,在具有像素单元阵列的半导体基底上形成氧化硅层,于氧化硅层中形成与像素单元阵列对应设置的凹槽,以限定像素单元阵列中各像素单元接收光的开口,而后在氧化硅层的表面形成铝金属层,且形成的铝金属层与氧化硅层之间形成有SiAlxOy层,而后去除位于凹槽底部的铝金属层及SiAlxOy层,及去除位于凹槽侧壁的铝金属层以显露位于凹槽侧壁的SiAlxOy层,形成栅格结构;本发明通过SiAlxOy层,可提供具有高光隔离性能的栅格结构,可有效克服铝金属层完整性差的问题,并提供性能良好的高反射率层,从而可有效防止相邻像素单元的串扰,提高图像传感器的接收光效。
今年以来思特威新获得专利授权70个,较去年同期增加了14.75%。结合公司2025年年报财务数据,2025年公司在研发方面投入了6.18亿元,同比增38.16%。
通过天眼查大数据分析,思特威(上海)电子科技股份有限公司共对外投资了11家企业,参与招投标项目8次;财产线索方面有商标信息289条,专利信息691条,著作权信息19条;此外企业还拥有行政许可29个。
数据来源:天眼查APP
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