长江存储申请半导体结构及其制造方法、存储器以及存储器系统专利，栅极层的电阻率小于35μΩ·cm
创始人
2025-11-27 11:15:54
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国家知识产权局信息显示，长江存储科技有限责任公司申请一项名为“半导体结构及其制造方法、存储器以及存储器系统”的专利，公开号CN 121013322 A，申请日期为2024年5月。
专利摘要显示，本申请实施例提供了一种半导体结构及其制造方法、存储器以及存储器系统。该半导体结构包括：半导体柱，沿第一方向延伸；以及栅极层，位于半导体柱的一侧；其中，栅极层的电阻率小于35μΩ·cm。
天眼查资料显示，长江存储科技有限责任公司，成立于2016年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本12469608.0404万人民币。通过天眼查大数据分析，长江存储科技有限责任公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目1432次，财产线索方面有商标信息978条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可995个。
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来源：市场资讯
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