真芯半导体取得建立光学邻近校正模型方法专利
创始人
2026-03-26 00:47:39
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国家知识产权局信息显示，真芯（北京）半导体有限责任公司取得一项名为“建立光学邻近校正模型的方法及光学邻近校正的方法”的专利，授权公告号CN115755528B，申请日期为2021年9月。

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来源：市场资讯

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