国家知识产权局信息显示,ASML荷兰有限公司申请一项名为“孔径组件、射束操纵器单元、操纵带电粒子束的方法以及带电粒子投射装置”的专利,公开号CN122291367A,申请日期为2021年4月。
专利摘要显示,本公开涉及用于操纵带电粒子束的装置和方法。在一个布置中,提供了孔径组件,孔径组件包括第一孔径主体和第二孔径主体。第一孔径主体中的孔径与第二孔径主体中的孔径对准。对准允许带电粒子束穿过孔径组件。第一孔径主体包括第一电极系统,第一电极系统用于向第一孔径主体中的每个孔径的孔径周表面施加电势。第一电极系统包括多个电极。每个电极彼此电隔离,并且被同时电连接到第一孔径主体中的多个孔径组中的一个不同的孔径的孔径周表面。
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来源:市场资讯