荆门勇曜电子申请半导体器件等离子清洗设备专利，提升污染物去除的一致性
创始人
2026-01-11 01:07:24
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国家知识产权局信息显示，荆门勇曜电子有限公司申请一项名为“一种半导体器件等离子清洗设备”的专利，公开号CN121310894A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本发明涉及半导体制造技术领域，具体为一种半导体器件等离子清洗设备，包括箱体，所述箱体内侧壁顶端设置有两个导向杆，所述箱体一侧壁设置有第三气泵，所述箱体侧壁设置有对半导体器件进行密封的密封机构，所述密封机构包括箱体顶端侧壁的液压伸缩杆，本发明所述的一种半导体器件等离子清洗设备，通过液压伸缩杆驱动下压板与上压板联动，实现第一密封盒与第二密封盒的精准嵌合，并通过第三气泵预抽真空保压验证气密性，随后动态平衡抽真空与工艺气体导入，维持腔体压力稳定，避免因密封泄漏或压力波动导致的局部清洗不彻底，提升污染物去除的一致性。
天眼查资料显示，荆门勇曜电子有限公司，成立于2021年，位于荆门市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2500万人民币。通过天眼查大数据分析，荆门勇曜电子有限公司参与招投标项目4次，专利信息15条，此外企业还拥有行政许可4个。
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来源：市场资讯
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