思特威申请图像传感器及其制备方法专利，有利于提高成像品质_半导体

思特威申请图像传感器及其制备方法专利，有利于提高成像品质

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2025-12-29 19:36:52

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国家知识产权局信息显示，思特威（上海）电子科技股份有限公司申请一项名为“图像传感器及其制备方法、电子设备”的专利，公开号CN121218710A，申请日期为2024年6月。

专利摘要显示，一种图像传感器及其制备方法和电子设备，图像传感器包括半导体衬底，半导体衬底包括多个像素区域，各像素区域形成有阱区、至少两个光电转换元件、至少两个传输晶体管以及一个共享的浮动扩散区，阱区将各光电转换元件间隔开，各传输晶体管连接于各光电转换元件与浮动扩散区之间，各传输晶体管包括平衡势垒差异的传输通道，传输通道连接于光电转换元件与浮动扩散区之间；当传输晶体管处于打开状态时，光电转换元件中的电子能通过传输通道传递至浮动扩散区，当传输晶体管处于关闭状态时，传输通道阻止电子通过。本发明的图像传感器能平衡势垒差异，有利于提高成像品质。

天眼查资料显示，思特威（上海）电子科技股份有限公司，成立于2017年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本39971.2197万人民币。通过天眼查大数据分析，思特威（上海）电子科技股份有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目7次，财产线索方面有商标信息153条，专利信息640条，此外企业还拥有行政许可25个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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